中芯国际7nm工艺Q4季度问世：性能提升20% 功耗降低57%

关于中芯国际集成电路制造有限公司，是世界领先的集成电路芯片代工企业之一，也是中国内地规模最大、技术最先进的集成电路芯片制造企业。主要业务是根据客户本身或第三者的集成电路设计为客户制造集成电路芯片。中芯国际是纯商业性集成电路代工厂，提供 0.35微米到28纳米制程工艺设计和制造服务。荣获《半导体国际》杂志颁发的"2003年度最佳半导体厂"奖项。

一场疫情，让2020年开年与以往很是不同。新冠肺炎下，我们开启了既要满足每日生活、工作所需，同时还要兼顾疫情防控的“无接触式”生活模式，随之而来的是每个人生活场景的巨大变化，以及各行业生产模式的改变。

受疫情影响餐饮、零售等消费类行业波及严重，但集成电路制造企业要确保全年365天*24小时工厂不间断生产。在疫情期间，中芯国际人力资源部门陆续出台假期调整、延期返岗、外地返岗员工14天隔离措施以及防疫期间薪酬保障等政策，并提倡各部门实行临时轮班，减少会议、避免聚集。春节期间，生产线上的工作人员采取四班二轮的轮岗制度继续生产，研发部门采取各级值班制度，辅助部门维持部分后勤保安和餐厅厂商在岗，保证了厂研发与运营的持续进行。
台积电、三星今年就要量产5nm工艺了，国内的先进工艺还在追赶，最大的晶圆代工厂中芯国际去年底量产了14nm工艺，带来了1%的营收，收入769万美元，不过该工艺技术已经可以满足国内95%的需求了。
14nm及改进型的12nm工艺是中芯国际第一代FinFET工艺，他们还在研发更先进的N+1括N+2 FinFET工艺，分别相当于7nm工艺的低功耗、高性能版本。

根据中芯国际联席CEO梁孟松博士所示，N+1工艺和14nm相比，性能提升了20%，功耗降低了57%，逻辑面积缩小了63%，SoC面积减少了55%。

N+1之后还会有N+2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N+2显然是面向高性能的，成本也会增加。

至于备受关注的EUV光刻机，梁孟松表示在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2工艺可能会有几层光罩使用EUV，之后的工艺才会大规模转向EUV光刻工艺。

从梁孟松的解释来看，中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多，7nm节点一共发展了三种工艺，分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7＋，前两代工艺也没用EUV光刻机，只有N7＋工艺上才开始用EUV工艺，不过光罩层数也比较少，5nm节点寸是充分利用EUV光刻工艺的，达到了14层EUV光罩。